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CVD Chemical Vapor Deposition CVD真空氣相鍍膜
CVD真空氣相設(shè)備
側(cè)式真空氣相鍍膜設(shè)備

LPMS CVD12

側(cè)式真空氣相鍍膜設(shè)備

  • 不銹鋼真空反應(yīng)罐,堅(jiān)固耐用。真空管路採用不銹鋼連節(jié),方便維護(hù)及保養(yǎng)。

  • 1.2米大直徑真空反應(yīng)罐,單次鍍膜數(shù)量多, 也能滿足大型工件的鍍膜需求。

  • 側(cè)開式門設(shè)計(jì)便於取放產(chǎn)品與腔體清潔等維護(hù)作業(yè)。

  • 反應(yīng)罐內(nèi)置轉(zhuǎn)盤機(jī)構(gòu)使產(chǎn)品在鍍膜過程中轉(zhuǎn)動,鍍層更均勻。

  • 使用數(shù)位LED真空計(jì)顯示工作真空度。

  • 操作簡易,可依實(shí)際需求變換自動 /手動操作模式。

  • 紅外線加熱圈,加溫速度快。

  • 採用高精度溫控裝置多段控溫,溫控精確。

  • 定時加熱、超溫報(bào)警和自動停止加熱等保護(hù)功能

  • 自診功能和各種故障報(bào)警。


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運(yùn)用範(fàn)圍

       真空氣相沉積設(shè)備是一種用於電子產(chǎn)品防水保護(hù)的鍍膜設(shè)備。工作時把含有構(gòu)成薄膜元素的化合物(長鏈性高分子材料,一般為派瑞林Parylene)、單質(zhì)氣體經(jīng)過昇華、熱解後進(jìn)入放置產(chǎn)品的真空反應(yīng)室,借助空間氣相化學(xué)反應(yīng), 在產(chǎn)品表面上沉積生成0.1-100um的厚度均勻,無應(yīng)力、優(yōu)異的電絕緣性和防護(hù)性、防潮、防黴、防腐、防鹽霧的薄膜塗層。

    廣泛應(yīng)用於:航空航太、電路板、LED 、磁性材料、感測器、矽橡膠、密封件、醫(yī)療器械、珍貴文物等領(lǐng)域產(chǎn)品的防水封裝與保護(hù)工藝中。



產(chǎn)品規(guī)格

設(shè)備總尺寸 ( 寬度 , 深度 , 高度 ) / 重量

3000 mm x 1420 mm x 1620mm

反應(yīng)罐體外徑

?1210 mm x 1240 mm

反應(yīng)罐罐口尺寸

890 mm x 1200 mm

輸入電壓

三相 380 VAC / 50 Hz

設(shè)備最大功率

15 Kw

溫控分區(qū)

6

分解爐溫控範(fàn)圍

室溫至700℃

昇華爐溫控範(fàn)圍

室溫到150℃

原料門溫控範(fàn)圍

室溫到250℃

製冷壓縮機(jī)功率

1000 W

製冷量

887 W

最低製冷溫度

-90℃

真空泵型號

2RH 090C

真空泵抽氣速率

90 m3

最大真空壓力

≤ 5 Pa

真空泵電機(jī)功率

3.7 KW (三相380VAC)

真空泵電機(jī)轉(zhuǎn)速

1440 R/Min

控制系統(tǒng)

10 ”人機(jī)介面,PLC 控制



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